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国林科技:用于半导体清洗的高浓度臭氧水设备的核心技术取得突破

  • 来源:互联网
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  • 2021-08-04
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8月3日,国林科技在互动平台表示,近期公司用于半导体清洗行业的高浓度臭氧水设备的核心技术取得突破,该产品目前处于研发阶段,公司将围绕自身优势、提升核心技术,为国内半导体技术发展贡献力量。

据国林科技透露,公司先后攻克了容性负载大功率恒流源和大功率恒压源两种大型臭氧发生器电源技术、非玻璃和玻璃放电介质技术,研制成功1g/h -120kg/h大中小型全系列臭氧发生器。公司的产品主要应用于包装饮用水及直饮水、市政污水、印染和化工废水、工业氧化、烟气脱硝、工业覆膜、泳池、食品加工空间消毒、畜牧养殖、粮仓消毒、冷库冷链等行业。

在建项目方面,公司新疆项目正在按计划建设,预计于2022年1月投产,目前项目投入资金主要为公司自筹资金;臭氧产业化基地升级改造项目正在按计划推进中,预计达到可使用时间为2022年2月底。(Arden)

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  • 编辑:李娜
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